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  • DM3 XL正置显微镜

    在微电子和半导体行业中,检验、过程控制或缺陷和故障分析的速度至关重要。检测缺陷的速度越快,您做出响应的速度也就越快。DM3 XL 检验系统凭借大视场帮助您的团队更快地识别缺陷,提高您的收益率。充分利用其宏观物镜,视场宽敞30%。

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    更新日期:2023-12-08
  • DM8000 M工业显微镜

    徕卡DM8000 M提供了全新的光学设计,如理想的宏观检查模式或者倾斜紫外光(OUV,随检UV选择)不但提高了分辨能力,同时也增加了观察8''/200毫米直径大样品时的产量。

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    产品产地:
    更新日期:2023-12-08
  • DM12000M工业显微镜

    徕卡DM12000M全新的光学设计,可以提供宏观模式快速初检,以及倾斜紫外光路功能(OUV, 倾斜紫外观察模式) 不单提升了分辨率还提高了检查12英寸(300毫米)硅片的产能。

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    更新日期:2023-12-08
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